|
База данных применения химических эффектов |
На главную страницу | О проекте | Контакты |
Новости | База данных | Статьи |
Вы находитесь здесь: dace.ru / База данных химических эффектов База данных по химическим эффектам в химических патентах
Все патенты, начинающие с В
ВОССТАНОВЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ
Восстановление свойств поверхности Si после реактивного ионного травления с помощью быстрого теплового отжига. Продемонстрированы возможности отжига в режиме теплового удара для восстановления заданных свойств Пв Si после реактивного травления в плазме СC1F3/Н2. Отжиг удаляет повреждения кристаллической структуры Si, вызванные ионной бомбардировкой, но в получаемых на данной Пв диодах Шоттки Si/Аu имеется заметное сопротивление. [РЖХ-1988, реф.21Л32].
SiO2 + 2 H2 =(plazma)=> Si + 2 H2O ; 445; c04rd (Ур.ТР=1-2 , B3354041, E2, МКИ C01B) “восстановление водородом; ВОССТАНОВЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ” |
dace.ru © 2005-2024 гг. Сделано dkos.ru |