ФОТООКИСЛЕНИЕ органических примесей
ФОТООКИСЛЕНИЕ органических примесей в водных растворах
Используя KrCl-эксилампы (с максимумом излучения на длине волны 222 нм) проведен эффективный фотолиз (фотоокисление) орто- и пара-крезолов, фенола, аминокрезолов, поверхностноактивных веществ и комплексов металл+органическая матрица в водных растворах [Соколова И.В., Соснин Э.А. и др. Фотопревращения фенолов в водных растворах при различном возбуждении // Химия высоких энергий. 2002. Т.36. №4. С.307-310; Сультимова Н.Б., Соснин Э.А. Исследование фотохимических свойств гуминовых кислот //сб. Совр. проблемы физики и технологии: - Томск: Изд.ТГУ-2002. С.161-163; Соколова Т.В., Соснин Э.А. Исследование фотохимических свойств крезолов в различных средах //сб. Совр. проблемы физики и технологии:.- Томск: Изд.ТГУ-2002. С.156-158; Sosnin E.A. and All. Excilamps application in the chemical sample pretreatment process // Proc. SPIE-2002. V.4747. p.352-357; Sosnin E.A. and All. Improvement of photodecomposition methods of phenol containing ecotoxicants in aqueous media // Proc. SPIE-2002. V.4147. p.240-244; Sosnin E.A. and All. Comparative study of interference elimination in heavy metals control by ASV method // In Proc. of Int. Conf. PHYSCON-2003, Aug. 20-22, St.-Peterburg, Russia. p. 350-352.] c20fl, c01oO, c84ww, МПК C02C (Ур.ТР=2-3), экологический процесс.
